上海伯東 射頻離子源 RFICP 380

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上海伯東美國(guó) kri 大口徑射頻離子源 rficp 380, 3層?xùn)艠O設(shè)計(jì), 柵極口徑 38cm, 提供離子動(dòng)能 100-1200ev 寬束離子束, 離子束流 > 1000ma, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應(yīng)用.
kri射頻離子源rficp 380 特性：
放電腔 discharge chamber, 無(wú)需電離燈絲, 通過(guò)射頻技術(shù)提供高密度離子, 工藝時(shí)間更長(zhǎng). 2kw & 1.8 mhz, 射頻自動(dòng)匹配 離子源結(jié)構(gòu)模塊化設(shè)計(jì) 離子光學(xué), 自對(duì)準(zhǔn)技術(shù), 準(zhǔn)直光束設(shè)計(jì), 自動(dòng)調(diào)節(jié)技術(shù)保障柵極的使用壽命和可重復(fù)的工藝運(yùn)行 全自動(dòng)控制器 離子束動(dòng)能 100-1200ev 柵極口徑 38cm, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應(yīng)用
射頻離子源rficp 380 技術(shù)規(guī)格：
陽(yáng)極
電感耦合等離子體
2kw & 1.8 mhz
射頻自動(dòng)匹配
陽(yáng)極功率
>1kw
離子束流
> 1000ma
電壓范圍
100-1500v
離子束動(dòng)能
100-1200ev
氣體
ar, o2, n2,其他
流量
5-50sccm
壓力
< 0.5mtorr
離子光學(xué), 自對(duì)準(zhǔn)
optibeamtm
離子束柵極
38cm φ
柵極材質(zhì)
鉬或石墨
離子束流形狀
平行,聚焦,散射
中和器
lfn 2000
高度
38.1 cm
直徑
58.2 cm
鎖緊安裝法蘭
12”cf
上海伯東美國(guó)考夫曼 kri 大口徑射頻離子源rficp220, rficp 380 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸磁存儲(chǔ)器刻蝕機(jī), 8英寸量產(chǎn)型金屬刻蝕機(jī)中, 實(shí)現(xiàn) 8英寸 ic 制造中的 al, w 刻蝕工藝, 適用于 ic, 微電子,光電子, mems 等領(lǐng)域.
1978 年 dr. kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 kaufman & robinson, inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源,霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng)40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專利. kri 離子源廣泛用于離子清洗 pc, 離子蝕刻 ibe, 輔助鍍膜 ibad, 離子濺射鍍膜 ibsd 領(lǐng)域, 上海伯東是美國(guó)考夫曼離子源中國(guó)總代理.
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