光刻膠哪家好-光刻膠-賽米萊德公司(查看)

光刻膠的概述
光刻膠也稱為光致*蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變。光刻膠主要用來(lái)將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。
光刻膠有正膠和負(fù)膠之分。正膠經(jīng)過(guò)*后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過(guò)顯影后被溶解，只留下未受光照的部分形成圖形；而負(fù)膠卻恰恰相反，經(jīng)過(guò)*后，受到光照的部分會(huì)變得不易溶解，經(jīng)過(guò)顯影后，留下光照部分形成圖形。
負(fù)膠在光刻工藝上應(yīng)用早，光刻膠，其工藝成本低、產(chǎn)量高，但由于它吸收顯影液后會(huì)膨脹，導(dǎo)致其分辨率（即光刻工藝中所能形成圖形）不如正膠，光刻膠哪家好，因此對(duì)于亞微米甚至更小尺寸的加工技術(shù)，主要使用正膠作為光刻膠。
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光刻膠：半導(dǎo)體技術(shù)壁壘的材料之一
光刻是整個(gè)集成電路制造過(guò)程中耗時(shí)長(zhǎng)、難度大的工藝，耗時(shí)占ic制造50%左右，成本約占ic生產(chǎn)成本的1/3。光刻膠是光刻過(guò)程重要的耗材，光刻膠的質(zhì)量對(duì)光刻工藝有著重要影響。
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如何選購(gòu)光刻膠？
光刻加工工藝中為了圖形轉(zhuǎn)移，輻照必須作用在光刻膠上，通過(guò)改變光刻膠材料的性質(zhì)，使得在完成光刻工藝后，光刻版圖形被在圓片的表面。而加工前，如何選用光刻膠在很大程度上已經(jīng)決定了光刻的精度。盡管正性膠的分辨力是的，但實(shí)際應(yīng)用中由于加工類型、加工要求、加工成本的考慮，需要對(duì)光刻膠進(jìn)行合理的選擇。
劃分光刻膠的一個(gè)基本的類別是它的*性。光刻膠在*之后，被浸入顯影溶液中。在顯影過(guò)程中，正性光刻膠曝過(guò)光的區(qū)域溶解得要快得多。理想情況下，光刻膠公司，未*的區(qū)域保持不變。負(fù)性光刻膠正好相反，在顯影劑中未*的區(qū)域?qū)⑷芙?，?的區(qū)域被保留。正性膠的分辨力往往是的，因此在ic制造中的應(yīng)用更為普及，但mems系統(tǒng)中，由于加工要求相對(duì)較低，光刻膠需求量大，負(fù)性膠仍有應(yīng)用市場(chǎng)。
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