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光電探測(cè)器的原理
是由輻射引起被照射材料電導(dǎo)率發(fā)生改變。光電探測(cè)器在軍事和國(guó)民經(jīng)濟(jì)的各個(gè)領(lǐng)域有廣泛用途。在可見(jiàn)光或近紅外波段主要用于射線測(cè)量和探測(cè)、工業(yè)自動(dòng)控制、光度計(jì)量等；在紅外波段主要用于制導(dǎo)、紅外熱成像、紅外遙感等方面。光電導(dǎo)體的另一應(yīng)用是用它做攝像管靶面。為了避免光生載流子擴(kuò)散引起圖像模糊，pd光電探測(cè)器哪家好，連續(xù)薄膜靶面都用高阻多晶材料，如pbs-pbo、sb2s3等。其他材料可采取鑲嵌靶面的方法，整個(gè)靶面由約10萬(wàn)個(gè)單獨(dú)探測(cè)器組成。
光電探測(cè)器工作原理
光電探測(cè)器的基本工作機(jī)理包括三個(gè)過(guò)程：(1)光生載流子在光照下產(chǎn)生;(2)載流子擴(kuò)散或*移形成電流;(3)光電流在放大電路中放大并轉(zhuǎn)換為電壓信號(hào)。當(dāng)探測(cè)器表面有光照射時(shí)，如果材料禁帶寬度小于入射光光子的能量即eglt;hv，則價(jià)帶電子可以躍遷到導(dǎo)帶形成光電流。
當(dāng)光在半導(dǎo)體中傳輸時(shí)，光波的能量隨著傳播會(huì)逐漸衰減，北京康冠光電光電探測(cè)器多少錢(qián)，其原因是光子在半導(dǎo)體中產(chǎn)生了吸收。半導(dǎo)體對(duì)光子的吸收的吸收為本征吸收，光電探測(cè)器，本征吸收分為直接躍遷和間接躍遷。通過(guò)測(cè)試半導(dǎo)體的本征吸收光譜除了可以得到半導(dǎo)體的禁帶寬度等信息外，還可以用來(lái)分辨直接帶隙半導(dǎo)體和間接帶隙半導(dǎo)體。本征吸收導(dǎo)致材料的吸收系數(shù)通常比較高，由于半導(dǎo)體的能帶結(jié)構(gòu)所以半導(dǎo)體具有連續(xù)的吸收譜。從吸收譜可以看出，當(dāng)本征吸收開(kāi)始時(shí)，半導(dǎo)體的吸收譜有一明顯的吸收邊。但是對(duì)于硅材料，由于其是間接帶隙材料，與三五族材料相比躍遷幾率較低，因而只有非常小的吸收系數(shù)，同時(shí)導(dǎo)致在相同能量的光子照射下在硅材料中的光的吸收深度更大。直接帶隙材料的吸收邊比間接帶隙材料陡峭很多，如圖 畫(huà)出了幾種常用半導(dǎo)體材料(如 gaas、inp、inas、si、ge、gap 等材料)的入射光波長(zhǎng)和光吸收系數(shù)、滲透深度的關(guān)系。
光電探測(cè)技術(shù)發(fā)展概況
光電探測(cè)技術(shù)是根據(jù)被探測(cè)對(duì)象輻射或反射的光波的特征來(lái)探測(cè)和識(shí)別對(duì)象的一種技術(shù)，這種技術(shù)本身就賦予光電技術(shù)在軍事應(yīng)用中的四大優(yōu)點(diǎn)，即看得更清、打得更準(zhǔn)、反應(yīng)更快和生存能力更強(qiáng)。
光電探測(cè)技術(shù)是現(xiàn)代中廣泛使用的核心技術(shù)，它包括光電偵察、夜視、導(dǎo)航、制導(dǎo)、尋的、搜索、跟蹤和識(shí)別多種功能。光電探測(cè)包括從紫外光（0.2～0.4μm）、可見(jiàn)光（0.4～0.7μm）、紅外光（1～3μm，3～5μm，8～12μm）等多種波段的光信號(hào)的探測(cè)。
新一代光電探測(cè)技術(shù)及其智能化，將使相關(guān)獲得更長(zhǎng)的作用距離，更強(qiáng)的單目標(biāo)/多目標(biāo)探測(cè)和識(shí)別能力，從而實(shí)現(xiàn)更準(zhǔn)確的打擊和快速反應(yīng)，硅光電探測(cè)器，在*的情況下取得的主動(dòng)權(quán)。同時(shí)使裝備具有很強(qiáng)的自主決策能力，增強(qiáng)了對(duì)*，反對(duì)*和自身的生存能力。實(shí)際上，*的光電探測(cè)技術(shù)已成為一個(gè)國(guó)家的軍事實(shí)力的重要標(biāo)志。
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