磁控濺射機(jī)廠家-沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)-磁控濺射機(jī)

直流磁控濺射技術(shù)的原理
沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——生產(chǎn)、銷售磁控濺射產(chǎn)品，我們公司堅(jiān)持用戶為上帝，想用戶之所想，急用戶之所急，以誠(chéng)為本，講求信譽(yù)，以產(chǎn)品求發(fā)展，以質(zhì)量求生存，我們熱誠(chéng)地歡迎各位同仁合作共創(chuàng)*。
直流磁控濺射技術(shù)其原理是：在磁控濺射中，由于運(yùn)動(dòng)電子在磁場(chǎng)中受到洛侖茲力，它們的運(yùn)動(dòng)軌跡會(huì)發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運(yùn)動(dòng)，其運(yùn)動(dòng)路徑變長(zhǎng)，磁控濺射機(jī)報(bào)價(jià)，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù)，使等離子體密度*，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，降低薄膜污染的傾向；另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量，因而可以在很大程度上改善薄膜的質(zhì)量。同時(shí)，經(jīng)過(guò)多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽(yáng)*時(shí)，已變成低能電子，從而不會(huì)使基片過(guò)熱。因此磁控濺射法具有“高速”、“低溫”的優(yōu)點(diǎn)。
磁控濺射介紹
沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——生產(chǎn)、銷售磁控濺射產(chǎn)品，我們公司堅(jiān)持用戶為上帝，想用戶之所想，急用戶之所急，以誠(chéng)為本，講求信譽(yù)，磁控濺射機(jī)價(jià)格，以產(chǎn)品求發(fā)展，磁控濺射機(jī)，以質(zhì)量求生存，我們熱誠(chéng)地歡迎各位同仁合作共創(chuàng)*。
由于被濺射原子是與具有數(shù)十電子伏特能量的正離子交換動(dòng)能后飛濺出來(lái)的，因而濺射出來(lái)的原子能量高，有利于提高沉積時(shí)原子的擴(kuò)散能力，提高沉積組織的致密程度，使制出的薄膜與基片具有強(qiáng)的附著力。
濺射時(shí)，氣體被電離之后，氣體離子在電場(chǎng)作用下飛向接陰*的靶材，電子則飛向接地的壁腔和基片。這樣在低電壓和低氣壓下，產(chǎn)生的離子數(shù)目少，靶材濺射效率低；而在高電壓和高氣壓下，磁控濺射機(jī)廠家，盡管可以產(chǎn)生較多的離子，但飛向基片的電子攜帶的能量高，容易使基片發(fā)熱甚至發(fā)生二次濺射，影響制膜質(zhì)量。另外，靶材原子在飛向基片的過(guò)程中與氣體分子的碰撞幾率也大為增加，因而被散射到整個(gè)腔體，既會(huì)造成靶材浪費(fèi)，又會(huì)在制備多層膜時(shí)造成各層的污染。
自動(dòng)磁控濺射系鍍膜機(jī)介紹
以下內(nèi)容由沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供，希望對(duì)同行業(yè)的朋友有所幫助。
自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)選配項(xiàng)：
rf、dc濺射
熱蒸鍍能力
rf或dc偏壓（1000v）
樣品臺(tái)可加熱到700°c
膜厚監(jiān)測(cè)儀
基片的rf射頻等離子清洗
應(yīng)用：
晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質(zhì)涂覆
光學(xué)以及ito涂覆
帶高溫樣品臺(tái)和脈沖dc電源的硬涂覆
帶rf射頻等離子放電的反應(yīng)濺射
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