KRI 射頻離子源輔助沉積鍍制385nm紫外帶通濾光片

帶通濾光片也叫干涉濾光片,主要起到過濾不想要的雜光,只讓想要的光通過的作用. 385nm紫外帶通濾光片是帶通濾光片中一款uv紫外波段的濾光片,廣泛應(yīng)用于熒光檢測(cè),多波段濾光片.它具有高透過率,其深截止可保探測(cè)器接收不到其它波長(zhǎng)的光,因此可保證圖像的高亮度和大的信噪比. 385nm紫外帶通濾光片采用多層硬膜經(jīng)離子輔助沉積納米材料高真空蒸發(fā)而成,膜層致密性好,成像清晰度高,厚度薄.為了得到效果,經(jīng)過上海伯東某客戶采用光學(xué)鍍膜機(jī)加裝美國(guó)進(jìn)口kri大尺寸射頻離子源rficp 380鍍制385nm紫外帶通濾光片.驗(yàn)證過程及結(jié)果如下：
應(yīng)用方向：美國(guó)kri射頻離子源輔助沉積鍍制385nm紫外帶通濾光片
離子源類型：美國(guó)kri射頻離子源rficp 380
鍍膜設(shè)備：1米7的大型蒸鍍?cè)O(shè)備
應(yīng)用領(lǐng)域：uv臭氧燈、uv洗凈燈、uv光分解燈、uv燈、uv固化燈、uv-led、uv紫外光合成燈、熒光分析儀、熒光顯微鏡、生物芯片、酶標(biāo)儀、工業(yè)相機(jī)、分光光度計(jì)、醫(yī)用理化分析設(shè)備、刑偵檢測(cè)、光學(xué)儀器、科學(xué)攝影、生命科學(xué)檢測(cè)儀器等
光學(xué)鍍膜機(jī)加裝美國(guó)進(jìn)口kri大尺寸射頻離子源rficp 380鍍制385nm紫外帶通濾光片,可以獲得很小的ta2o5與sio2材料在紫外的吸收率,沉積過程穩(wěn)定,加以合理的膜系設(shè)計(jì),能達(dá)到行業(yè)級(jí)水準(zhǔn).
上海伯東美國(guó)kri射頻離子源rficp系列,燈絲提供高能量,低濃度的離子束,通過柵控制離子束的能量和方向,單次工藝時(shí)間長(zhǎng)!射頻源rf系列提供完整的系列,包含離子源本體,電子供應(yīng)器,中和器,自動(dòng)控制器等.射頻離子源適合多層膜的制備,離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻,改善靶材的致密性,光透射,均勻性,附著力等.
上海伯東同時(shí)提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵,真空規(guī),高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).1978 年 dr. kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 kaufman & robinson, inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源,霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng)40 年改良及發(fā)展. 離子源廣泛用于離子清洗 pc, 離子蝕刻 ibe, 輔助鍍膜 ibad, 離子濺射鍍膜 ibsd 領(lǐng)域.
上海伯東是美國(guó)gel-pak 芯片包裝盒, 日本ns離子蝕刻機(jī), 德國(guó)pfeiffer真空設(shè)備, 美國(guó)kri考夫曼離子源, 美國(guó)intest高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 比利時(shí)進(jìn)口europlasma 等離子表面處理機(jī)和美國(guó) ambrell感應(yīng)加熱設(shè)備等進(jìn)口的代理商 .我們真誠(chéng)期待與您的合作!
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