至成鍍膜設(shè)備-AF真空鍍膜設(shè)備-南通鍍膜設(shè)備

冷成型模真空鍍膜機(jī)
高強(qiáng)度材料成形冷成型模真空鍍膜機(jī)高強(qiáng)度金屬成型中存在的高成型壓力和產(chǎn)生的摩擦成為工模具和涂層要面對(duì)的重要挑戰(zhàn)。pvd和cvd涂層展示的韌性、*性和*磨損性能顯著提高工具的生產(chǎn)能力。
hc90concept，作為一種無(wú)需氮化處理的新型物*相沉積（pvd）涂層，對(duì)于這些應(yīng)用領(lǐng)域來(lái)講是非常理想的解決方案。hc22，hc25，hc30或hc62，均結(jié)合了氮化處理，對(duì)于公差要求高的工具是非常合適的涂層方案。hc02和hc62是非常適合公差要求不高工具的涂層方案。
有色金屬材料成型有色金屬材料通常比一般鋼材有更好的成形性，但其表面更難改變。hcpvd和pacvd涂層工藝的韌性、*性、低摩擦和*磨損性能夠顯著加強(qiáng)工具的生產(chǎn)能力，提高零部件的質(zhì)量。冷鍛冷鍛是一種將固定大小的金屬塊組合成等量的復(fù)雜形狀的成型工藝。此過程中的工模具要經(jīng)受高強(qiáng)度的壓力和高速率，和工件接觸的表面必然會(huì)產(chǎn)生磨料和粘著磨損。hcpvd和pacvd和hccvd涂層工藝的韌性、*性和低摩擦性能能夠顯著提高工模具的使用壽命和產(chǎn)品的質(zhì)量。
鍍膜理論
鍍膜控制穿過光學(xué)干涉機(jī)制的反射光和透射光。當(dāng)兩個(gè)光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時(shí)，波峰值的空間位置也匹配并將結(jié)合創(chuàng)建較大的總振幅。當(dāng)光束為反相位（180°位移）時(shí)，其疊加會(huì)導(dǎo)致在所有峰值的消減效應(yīng)，導(dǎo)致結(jié)合的振幅降低。這些效應(yīng)被分別稱為建設(shè)性和*性的干涉。
光的波長(zhǎng)和入射角通常是的，折射率和層厚度則可以有所不同以優(yōu)化性能。上述的任何更改將會(huì)影響鍍膜內(nèi)光線的路徑長(zhǎng)度，并將在光透射時(shí)改變相位值。這種效應(yīng)可簡(jiǎn)單地通過單層增透膜例子說(shuō)明。當(dāng)光傳輸穿過系統(tǒng)時(shí)，在鍍膜任一側(cè)的兩個(gè)接口指數(shù)更改處將出現(xiàn)反射。為了盡量減少反射，我們希望它們?cè)趥€(gè)接口重組時(shí)，這兩個(gè)反射部分具有180°的相位移。這個(gè)相位差異直接對(duì)應(yīng)于aλ/2位移的正弦波，它可通過將層的光學(xué)厚度設(shè)置為λ/4獲得良好實(shí)現(xiàn)。
電子束光學(xué)鍍膜機(jī)有哪些特點(diǎn)
在玻璃/pmma/pc基片上形成光學(xué)多層薄膜的精密真空鍍膜機(jī)。將滿足客戶需求的多種元件組合在一起，可以形成品質(zhì)更加優(yōu)良的薄膜。
基片傘架采用了每分鐘可轉(zhuǎn)60轉(zhuǎn)的中心旋轉(zhuǎn)方式(公轉(zhuǎn))，減少產(chǎn)生振動(dòng)和顆粒，使基片能夠穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)。
采用坩堝上沒有*片的電子束加熱方式(2臺(tái)電子，10kw型)作為蒸發(fā)源，可以穩(wěn)定地形成多層膜。
采用本公司*的比率控制法和多點(diǎn)在線監(jiān)控，可以形成且穩(wěn)定的光學(xué)多層膜。
可利用操作性良好的升降機(jī)來(lái)取出基片傘架。