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光刻膠介紹
光刻膠自1959年被發(fā)明以來(lái)一直是半導(dǎo)體核心材料,隨后被改進(jìn)運(yùn)用到pcb板的制造,并于20世紀(jì)90年代運(yùn)用到平板顯示的加工制造。終應(yīng)用領(lǐng)域包括消費(fèi)電子、家用電器、汽車(chē)通訊等。
光刻工藝約占整個(gè)芯片制造成本的35%,nr9 1500py光刻膠哪里有,耗時(shí)占整個(gè)芯片工藝的40%~60%,是半導(dǎo)體制造中核心的工藝。
以半導(dǎo)體光刻膠為例,在光刻工藝中,光刻膠被均勻涂布在襯底上,經(jīng)過(guò)*(改變光刻膠溶解度)、顯影(利用顯影液溶解改性后光刻膠的可溶部分)與刻蝕等工藝,將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上,形成與掩膜版完全對(duì)應(yīng)的幾何圖形。
光刻技術(shù)隨著ic集成度的提升而不斷發(fā)展。為了滿足集成電路對(duì)密度和集成度水平的更高要求,半導(dǎo)體用光刻膠通過(guò)不斷縮短*波長(zhǎng)以*限分辨率,nr9 1500py光刻膠廠家,世界芯片工藝水平目前已跨入微納米級(jí)別,光刻膠的波長(zhǎng)由紫外寬譜逐步至g線(436nm)、i線(365nm)、krf(248nm)、 arf(193nm)、f2(157nm),以及達(dá)到euv(lt;13.5nm)線水平。
目前,半導(dǎo)體市場(chǎng)上主要使用的光刻膠包括 g 線、i 線、krf、arf四類(lèi)光刻膠,nr9 1500py光刻膠多少錢(qián),其中,g線和i線光刻膠是市場(chǎng)上使用量較大的。krf和arf光刻膠核心技術(shù)基本被日本和美國(guó)企業(yè)所壟斷。
正性光刻膠
正性光刻膠
正性光刻膠也稱(chēng)為正膠。正性光刻膠樹(shù)脂是一種叫做線性酚醛樹(shù)脂的酚醛甲醛,提供光刻膠的粘附性、化學(xué)*蝕性,當(dāng)沒(méi)有溶解存在時(shí),線性酚醛樹(shù)脂會(huì)溶解在顯影液中,感光劑是光敏化合物,常見(jiàn)的是重氮萘醌(dnq)。在*前,dnq是一種強(qiáng)烈的溶解,降低樹(shù)脂的溶解速度。在紫外*后,dnq在光刻膠中化學(xué)分解,nr9 1500py光刻膠,成為溶解度增強(qiáng)劑,大幅提高顯影液中的溶解度因子至100或者更高。這種*反應(yīng)會(huì)在dnq中產(chǎn)生羧酸,它在顯影液中溶解度很高。正性光刻膠具有很好的對(duì)比度,所以生成的圖形具有良好的分辨率。
pcb
光刻膠
主要分為干膜光刻膠、濕膜光刻膠(又稱(chēng)為*蝕刻/線路油墨)、光成像阻焊油墨等。pcb 光刻膠技術(shù)壁壘相對(duì)較低,主要是中低端產(chǎn)品。
lcd
光刻膠
包含彩色濾光片用彩色光刻膠及黑色光刻膠、lcd 觸摸屏用光刻膠、tft-lcd 正性光刻膠等產(chǎn)品。
彩色濾光片是lcd
實(shí)現(xiàn)彩色顯示的關(guān)鍵器件,占面板成本的14%~16%;在彩色濾光片中,彩色光刻膠和黑色光刻膠是核心材料,占其成本的27%左右,其中黑色光刻膠占彩色濾光片材料成本的6%~8%。
半導(dǎo)體光刻膠
包括g 線光刻膠、i 線光刻膠、krf 光刻膠、arf 光刻膠、聚酰ya光刻膠、掩膜板光刻膠等。
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